फोटोरेफ्रेक्टिभ प्रभाव होलोग्राफिक अप्टिकल अनुप्रयोगहरूको आधार हो, तर यसले अन्य अप्टिकल अनुप्रयोगहरूमा पनि समस्याहरू ल्याउँछ, त्यसैले लिथियम निओबेट क्रिस्टलको फोटोरेफ्रेक्टिभ प्रतिरोधलाई सुधार गर्न ठूलो ध्यान दिइएको छ, जसमध्ये डोपिंग नियमन सबैभन्दा महत्त्वपूर्ण विधि हो।फोटोरेफ्रेक्टिभ डोपिङको विपरित, एन्टि-फोटोरेफ्रेक्टिभ डोपिङले फोटोरेफ्रेक्टिभ सेन्टर कम गर्न गैर-चर भ्यालेन्ट भएका तत्वहरू प्रयोग गर्दछ।1980 मा, यो रिपोर्ट गरिएको थियो कि उच्च अनुपात Mg-doped LN क्रिस्टल को photorefractive प्रतिरोध परिमाण को 2 भन्दा बढी आदेश द्वारा बढ्छ, जसले व्यापक ध्यान आकर्षित गर्यो।1990 मा, अनुसन्धानकर्ताहरूले पत्ता लगाए कि जिंक-डोपेड LN मा म्याग्नेसियम-डोपेड LN जस्तै उच्च फोटोरेफ्रेक्टिव प्रतिरोध छ।धेरै वर्ष पछि, स्क्यान्डियम-डोपेड र इन्डियम-डोपेड LN सँग फोटोरेफ्रेक्टिभ प्रतिरोध पनि फेला पर्यो।

2000 मा, Xu et al।त्यो उच्च पत्ता लाग्योअनुपात Mg-dopedLNदृश्य ब्यान्ड ha मा उच्च photorefractive प्रतिरोध संग क्रिस्टलsUV ब्यान्ड मा उत्कृष्ट photorefractive प्रदर्शन।यो खोज को समझ को माध्यम बाट तोड्योदphotorefractive प्रतिरोधLNक्रिस्टल, र अल्ट्राभायोलेट ब्यान्डमा लागू गरिएको फोटोरेफ्रेक्टिभ सामग्रीको खाली ठाउँ पनि भरियो।छोटो तरंग लम्बाइको अर्थ होलोग्राफिक ग्रेटिंगको साइज सानो र राम्रो हुन सक्छ, र गतिशील रूपमा मेटाउन सकिन्छ र पराबैंगनी प्रकाशद्वारा ग्रेटिंगमा लेख्न सकिन्छ, र रातो बत्ती र हरियो बत्तीले पढ्न सकिन्छ, ताकि गतिशील होलोग्राफिक अप्टिक्सको प्रयोगलाई महसुस गर्न सकियोस्। ।Lamarque et al।उच्च ग्रहण गरेअनुपात Mg-dopedLN क्रिस्टल नानकाई विश्वविद्यालय द्वारा प्रदान गरिएको UV photorefractive रूपमासामग्रीर दुई-तरंग युग्मित प्रकाश प्रवर्धन प्रयोग गरेर प्रोग्रामेबल द्वि-आयामी लेजर मार्किङ महसुस गर्यो।

प्रारम्भिक चरणमा, एन्टी-फोटोरेफ्रेक्टिभ डोपिङ तत्वहरूमा म्याग्नेसियम, जिंक, इन्डियम र स्क्यान्डियम जस्ता द्विभाजक र त्रिभाली तत्वहरू समावेश थिए।2009 मा, Kong et al।tetr प्रयोग गरेर एन्टी-फोटोरेफ्रेक्टिव डोपिङ विकसित गरियोaभ्यालेन्ट तत्वहरू जस्तै हाफनियम, जिरकोनियम र टिन।समान फोटोरेफ्रेक्टिभ प्रतिरोध प्राप्त गर्दा, divalent र trivalent doped तत्वहरूसँग तुलना गर्दा, tetradvalent तत्वहरूको डोपिङ मात्रा कम हुन्छ, उदाहरणका लागि, 4.0 mol% hafnium र 6.0 mol% म्याग्नेसियम डोपेड।LNक्रिस्टलमा s छimilarphotorefractive प्रतिरोध,2.0 mol% zirconium र 6.5 mol% म्याग्नेशियम डोप गरिएकोLNक्रिस्टलमा s छimilarphotorefractive प्रतिरोध।यसबाहेक, लिथियम निओबेटमा हाफनियम, जिरकोनियम र टिनको पृथकीकरण गुणांक १ को नजिक छ, जुन उच्च गुणस्तरको क्रिस्टलको तयारीको लागि अधिक अनुकूल छ।

WISOPTIC द्वारा विकसित उच्च-गुणस्तर LN [www.wisoptic.com]